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ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio
中
模擬高階雷射光束
可以使用 OpticStudio 安裝提供的“Laguerre beam”DLL 在 OpticStudio
中
對此類模式進行建模:該模型的輸入是光束在徑向 (n) 和方位角 (l) 方向上的順序、束腰 (wo) 和模式
旋
轉
角 (phi0)。
2057
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
上方視場角為0°到30°的-3.00D透鏡範例
中
,在OpticStudio
中
我們能求得基本曲線為+4.50D。在Layout
中
我們可以看到一個傳統的眼科半月形鏡片,這個基本曲線是個常見的形狀。然而,這個結論是根據我們的設計流程而來的,基於平面入射波、視場角與其權重、透鏡與眼睛
旋
轉
中心的距離、一些像差的忽略 (尤其是對畸變的忽略),以及其他更多的假設。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:智慧型手機鏡頭模組
射出成型
技術
使可能的創新光學機構設計
技術
,具有大規模生產的模塊很多好處。鏡頭可以設計成具有復雜的邊緣特徵,使它們能夠堆疊,從而簡化組裝並消除對齊的需要。Zemax 工具使注塑光學元件的可能性最大化變得簡單。在 OpticStudio
中
創建的光學設計可以無縫
轉
換為原始 CAD 元件,並且所有光學資訊都完好無損。
2042
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
觀察上圖,我們可以看到輸入的圓偏振被
轉
為線偏振。假如我們將Jones Matrix當作x方向上的半玻板 (Areal = -1, Dreal = +1,其餘元素皆為0),這時輸出的圓偏振方向
會
與輸入時相反(例如輸入左旋圓偏振後
會
產生右
旋
圓偏振的結果)。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術應用專題:如何為光學相干斷層掃描系統建模
透過以x或y方向
旋
轉
掃描鏡來執行橫向,橫向或b掃描,從而在整個樣品區域上平移探測光束。我們從商用OCT系統
中
獲取目標規格。 軸向分辨率完全來自光源特性,應在5μm的數量級上。 來自樣品處光束半徑的橫向分辨率應為15μm。800 nm範圍內的光將用於避免組織
中
的高吸收,這
會
限制穿透。光源規格OCT將干涉測量
技術
與寬帶近紅外光結合使用。
2222
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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技術鄰公告
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